2017年11月3日，奥林巴斯在武汉万达威斯汀酒店隆重举办了3D测量激光显微镜新品——OLS5000的发布会。OLS5000将为科研人员带来更专业、便捷的观测体验，它采用的共聚焦技术将助力科研人员获得高清晰高分辨率的图像，搭载的扫描算法和自动数据采集功能，可在不进行复杂调整的情况下快速获取数据。发布会上，奥林巴斯日本总部的产品专家进行了新产品相关的介绍和讲座，多角度的介绍让到场观众对新产品有了更全面的了解。

高速清晰成像，准确数据获取

传统的光学显微镜已经可以获得样品微小细节的图像，但是工业领域的研究需要更清晰地观察更微小的各种样品，并获得样品的三维形貌。一般显微镜采用散射型光线的场光源，在观察样品时，入射光线同时照射焦平面和相邻的点，并同时成像，因此干扰较多，呈现的图像不够清晰。而OLS5000搭载的共聚焦技术采用了点照明的方式，通过焦平面反射入显微镜的光线需要经过微小的针孔，来自焦平面以外的光线被阻挡住，大大减少了干扰，提高了图像的清晰度。同时，OLS5000可容纳高达210毫米样品的扩展架，可测量深度高达25毫米凹坑的超长工作距离物镜，将助力工业领域的研究人员对具有挑战性的样品进行观测，即使是对于普通显微镜来说较长的连接杆和体积较大的活塞头，OLS5000也可轻松应对。

除了具有无损观测、成像清晰的特点以外，OLS5000的数据获取和处理功能也将简化研究人员的工作，提高生产力。OLS5000采用计算机直观控制，它搭载的扫描算法，可通过计算机的处理、转换，快速获得完整带有高度信息的样品表面图像，并通过对样品不同层面的扫描和计算机处理，获得3D图像。其采用的自动数据采集功能在测量时，只需在放置样品后按动按钮，设备将自动进行工作，无需进行复杂的设置调整，即使是不熟练的用户也可获得准确的检测结果，有效地简化了工作流程。

前沿光学科技推动工业发展

 

目前，奥林巴斯工业专用激光共聚焦显微镜的中国市场占有率处于领先地位，国内用户达到了数百家，其中包括了中科院半导体所、清华大学等在内的多家研究所、企业和学校。新产品也将被应用于包括半导体、MEMS（微机电系统）、高精密PCB（印制电路板）制造、化学薄膜在内的多个工业领域。

半导体和MEMS（微机电系统）领域的样品进行显影、金属化、焊接等工艺后，需要进行表面形貌观察，OLS5000的高清晰成像特性将帮助研究人员检查样品，排除问题。同时，针对高精密PCB（印制电路板）制造、化学薄膜等领域的微米和亚微米级别部件尺寸测量的工作，OLS5000也将凭借自动数据采集功能，助力科研人员的观测。

OLS5000的无损、高清晰成像和快速数据获取的特点，将带给工业领域研究人员更专业、便捷的观测体验。奥林巴斯自1920年自主研发了日本第一台商用显微镜“旭号”开始，就一直在显微镜领域攻克难关，进行光学技术的创新，始终站在显微镜领域发展的前沿。依托自身在光学领域累积的先进技术和经验，奥林巴斯不断进取开拓，研发先进的显微镜产品。秉承“Social IN”的经营理念，奥林巴斯将持续为工业领域提供各种先进的科研和检测仪器，助力中国工业领域的前进与发展。